1. 四氟合铪酸根(HfF₆²⁻)浓度检测:测量范围0.01-500 mg/L,检出限≤0.005 mg/L
2. 氧氟合铪阴离子(HfOF₅⁻)形态分析:采用pH 2.5-11.5梯度洗脱分离
3. 硫酸铪络合物(Hf(SO₄)₃²⁻)定量测定:线性范围0.1-200 μg/mL,RSD<1.5%
4. 氯氧铪阴离子(HfOCl₅³⁻)纯度检验:分辨率≥0.01 nm,干扰元素(Zr⁴+)排除率>99.9%
5. 硝酸铪配合物(Hf(NO₃)₆²⁻)稳定性测试:温度控制25±0.1℃,时间分辨率0.1 s
1. 核反应堆控制棒材料中的HfB₂涂层成分分析
2. 航空发动机高温合金表面HfSiN防护涂层
3. 半导体用高介电常数HfO₂薄膜材料
4. 工业催化剂中的Hf(SO₄)₂·4H₂O前驱体
5. 核废料处理容器内壁防腐镀层成分监测
1. ASTM C1629-21:X射线荧光光谱法测定含铪化合物中阴离子比例
2. ISO 21587-3:2020:电感耦合等离子体发射光谱法分析耐火材料中铪系阴离子
3. GB/T 36590-2018:离子色谱法测定电子级氢氟酸中HfF₆²⁻杂质
4. ASTM E1479-16:辉光放电质谱法测定金属合金表面处理液中的铪络合物
5. GB/T 38812-2020:激光剥蚀-飞行时间质谱法进行镀层材料中铪阴离子分布成像
1. Thermo Scientific iCAP RQ ICP-MS:质量分辨率0.3 amu,检出限达ppt级
2. Metrohm 940 Professional IC Vario:配备化学抑制器,支持多价态阴离子分离
3. Bruker S8 TIGER XRF:4kW Rh靶管,可测HfLα线(7.899 keV)
4. PerkinElmer NexION 350D:三锥接口技术消除基体干扰
5. Agilent 8900 Triple Quadrupole ICP-MS/MS:MS/MS模式消除同质异位素干扰
6. Shimadzu EDX-8000:Be窗探测器分辨率129 eV@MnKα
7. HORIBA Ultima Expert:焦距750mm,光栅刻线密度2400 gr/mm
8. JEOL JXA-8530F EPMA:WDS分光晶体LiF/PET/TAP组合
9. Malvern Panalytical Empyrean XRD:CuKα辐射源,角度精度±0.0001°
10. LECO ONH836:惰性熔融法测定氧氮氢含量关联阴离子结构
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
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