表面元素分析:检测范围Li-U,检测深度2-10nm,灵敏度≥0.1at%
化学态分析:结合能分辨率±0.02eV,峰位重复性误差≤0.1eV
深度剖析:Ar+溅射速率0.1-10nm/min(SiO2标样),深度分辨率≤5%
价带谱分析:能量范围0-50eV,采集步长0.05eV
污染层检测:碳污染层厚度检测精度±0.3nm(参照NPL标准样品)
金属材料:不锈钢表面钝化膜、铝合金氧化层、镀层界面分析
半导体器件:晶圆表面污染物、栅极介质层成分、III-V族化合物界面
高分子材料:聚合物表面改性层、添加剂分布、老化产物分析
陶瓷与玻璃:釉面成分分析、晶界偏析物检测、高温腐蚀产物表征
生物材料:植入体表面涂层、蛋白质吸附层、生物矿化界面研究
X射线光电子能谱(XPS):ISO 20903:2019表面化学分析标准,GB/T 30705-2014微束分析技术规范
俄歇电子能谱(AES):ASTM E827-21俄歇分析标准方法,GB/T 26533-2020俄歇谱仪校准规范
角分辨XPS(ARXPS):ISO 19830:2015非破坏性深度剖析标准
单色化XPS:ASTM E2108-16单色X射线源性能验证方法
离子散射谱(ISS):DIN 50583:2018表面成分深度剖析技术规范
Thermo Scientific K-Alpha+:配备微聚焦单色Al Kα源(1486.6eV),空间分辨率≤30μm
PHI VersaProbe III:多模式XPS系统,集成20kV氩离子枪,深度剖析误差<3%
ULVAC-PHI Quantera II:高灵敏度SXES探测器,检测限达5×10^18 atoms/cm³
Specs Phoibos 150:半球形分析器,能量分辨率<0.45eV@Ag 3d5/2
Kratos AXIS Supra+:同步辐射兼容系统,角度分辨模式角度精度±0.1°
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
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注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外)。
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2、其他鉴定服务:协助相关部门证据链补充、证物材料补充、质量检测、样品分析;
4、研发使用:试验经验丰富,试验设备多,为科研工作提供数据支持;
3、高校论文:提供研究性实验数据、分析服务,给论文提供科学依据;
5、投标:检测周期短,准确性高,出具的第三方检测报告合法合规;
7、控制材料质量,进行产品内控,降低成本、风险。
1、与工程师沟通,确定具体的试验方案,我方报价;
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