1.氧化层厚度测量:测量范围0.5nm-500μm,精度0.1nm(椭圆偏振法)
2.元素组成分析:Si/O原子比测定(误差≤0.5%)
3.表面形貌表征:粗糙度Ra≤1nm(AFM扫描)
4.结晶相鉴定:α-SiO₂/β-SiO₂相含量比
5.界面结合强度:划痕测试临界载荷≥50N
1.半导体材料:单晶硅片、SOI晶圆
2.光伏产品:PERC电池钝化层、HJT非晶硅层
3.金属合金:高温合金Al-Si涂层
4.陶瓷材料:石英玻璃制品
5.光学涂层:SiO₂增透膜组件
1.ASTMF1210-22:椭圆偏振法测定氧化层厚度
2.ISO14701:2023:XPS深度剖析元素分布
3.GB/T16525-2019:SEM-EDS界面成分分析
4.ISO21222:2020:拉曼光谱结晶相鉴定
5.GB/T4160-2021:纳米压痕法测试力学性能
1.ThermoScientificK-AlphaXPS:配备单色AlKα源(1486.6eV),能量分辨率≤0.5eV
2.HitachiSU8200冷场发射SEM:分辨率0.8nm@15kV
3.HoribaLabRAMHREvolution拉曼光谱仪:532nm激光器,光谱范围200-4000cm⁻
4.BrukerD8ADVANCEXRD:Cu靶Kα辐射(λ=1.5406),角度精度0.0001
5.KLATencorAlpha-StepD-600台阶仪:垂直分辨率0.1
6.Agilent5500AFM:接触模式分辨率0.2nm
7.AntonPaarNHT纳米压痕仪:最大载荷500mN
8.J.A.WoollamM-2000V椭圆偏振仪:光谱范围245-1700nm
9.ShimadzuEPMA-8050G电子探针:元素分析精度1%
10.ZEISSCrossbeam550FIB-SEM双束系统:30kVGa离子束加工
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
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