1.电弧刻蚀深度:测量范围为0.1-500μm,精度0.05μm(依据ISO25178)
2.刻蚀区域宽度:分辨率0.01mm(ASTME112标准)
3.表面粗糙度(Ra/Rz):Ra0.01-10μm,Rz0.1-100μm(GB/T1031-2009)
4.热影响区显微硬度:载荷10-1000g(GB/T4340.1-2009)
5.元素成分变化:EDS分析精度0.1wt%(ISO22309:2011)
1.金属材料:不锈钢(304/316L)、钛合金(TC4)、铝合金(6061/7075)
2.半导体材料:硅晶圆(单晶/多晶)、GaN基板
3.高分子复合材料:聚酰亚胺薄膜、碳纤维增强环氧树脂
4.陶瓷材料:氧化铝(Al₂O₃)、氮化硅(Si₃N₄)
5.涂层体系:类金刚石涂层(DLC)、热障涂层(YSZ)
1.形貌分析:ASTME2809(三维轮廓术)、GB/T3505-2009(二维粗糙度)
2.显微组织观测:ISO17781:2016(金相制样)、GB/T13298-2015(显微摄影)
3.元素分布测试:ISO22309:2011(能谱法)、ASTME1508(波谱法)
4.电性能测试:IEC62631-3-1(体积电阻率)、GB/T1410-2006(表面电阻)
5.力学性能评估:ASTME384-22(显微硬度)、ISO14577-1:2015(纳米压痕)
1.ZEISSAxioImagerA2m金相显微镜:1000放大倍率,配备微分干涉对比功能
2.BrukerDektakXT表面轮廓仪:垂直分辨率0.1nm,扫描长度100mm
3.JEOLJSM-IT800扫描电镜:分辨率1nm@15kV,集成OxfordX-Max50EDS
4.MitutoyoHM-200显微硬度计:载荷范围10-1000g,符合ISO6507标准
5.KeysightB1500A半导体分析仪:电流分辨率10fA,支持IV/CV曲线测试
6.OlympusLEXTOLS5000激光共聚焦显微镜:Z轴分辨率10nm,3D重构功能
7.ShimadzuHMV-G21显微维氏硬度计:自动压痕测量系统,测试速度20s/点
8.ThermoFisherARLEQUINOX1000X射线衍射仪:角度精度0.001,物相分析功能
9.Agilent4294A阻抗分析仪:频率范围40Hz-110MHz,介电常数测量精度0.5%
10.HitachiTM4000桌面电镜:低真空模式观测非导电样品,15kV加速电压
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
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注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外)。
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1、工业问题诊断:包括失效分析、科学诊断、数据验证等,可以快速检测出产品问题,尽快止损;
2、其他鉴定服务:协助相关部门证据链补充、证物材料补充、质量检测、样品分析;
4、研发使用:试验经验丰富,试验设备多,为科研工作提供数据支持;
3、高校论文:提供研究性实验数据、分析服务,给论文提供科学依据;
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7、控制材料质量,进行产品内控,降低成本、风险。
1、与工程师沟通,确定具体的试验方案,我方报价;
2、双方签订委托书,我方接收样品;
3、进行细节沟通,我方进行试验测试;
4、试验测试完成,出具检测测试报告;
5、委托完成,我方提供售后服务。