薄膜晶体检测

关键字:薄膜晶体测试范围,薄膜晶体测试方法,薄膜晶体测试机构
所在栏目:其他检测
发布时间:2025-04-01
信息来源:北检院
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检测项目

1.膜层厚度测量:采用非接触式椭偏仪测量10nm-10μm范围厚度值,精度0.5nm

2.表面粗糙度分析:原子力显微镜(AFM)测试Ra≤0.3nm的超光滑表面

3.载流子迁移率测试:霍尔效应仪测量110^15~110^19cm^-3浓度范围

4.结晶取向测定:X射线衍射仪(XRD)分析0.01晶面偏移量

5.缺陷密度检测:阴极荧光系统识别≥0.1μm的晶格缺陷

检测范围

1.第三代半导体材料:SiC/GaN外延片及其器件结构层

2.光伏薄膜材料:CIGS/CZTS等化合物半导体吸收层

3.光学镀膜材料:ZnS/MgF2多层抗反射膜系

4.柔性电子材料:PI基板上的ITO透明导电膜

5.MEMS传感器材料:压电ZnO/AlN功能薄膜

检测方法

ASTMF1529-2021非接触式薄膜厚度测量标准

ISO14707:2020辉光放电光谱成分分析法

GB/T14264-2021半导体材料电阻率测试规范

ISO21283:2018原子力显微镜表面形貌表征法

GB/T38976-2020硅基外延层缺陷测试方法

检测设备

FilmetricsF20光谱椭偏仪:波长范围365-1700nm,支持多层膜分析

BrukerDektakXT台阶仪:垂直分辨率0.1,最大扫描长度55mm

KeysightB1500A半导体分析仪:最小电流分辨率0.1fA

ThermoFisherESCALABXi+XPS系统:空间分辨率≤7.5μm

BrukerDimensionIcon原子力显微镜:扫描精度0.1nmXYZ方向

RigakuSmartLabXRD:配备四轴测角器,角度重复性0.0001

Keithley4200A-SCS参数分析仪:支持脉冲IV测试模式

ZeissMerlinSEM:分辨率0.8nm@15kV,配备EDS/EBSD联用系统

HORIBALabRAMHREvolution拉曼光谱仪:空间分辨率<300nm

Agilent5500SPM:支持导电AFM与压电力显微镜模式

北检(北京)检测技术研究院【简称:北检院】

报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期:7~15工作日,可加急。

资质:旗下实验室可出具CMA/资质报告。

标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试:支持定制化试验方案。

售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

以上是关于薄膜晶体检测相关介绍,如果您还有其他疑问,可以咨询在线工程师提交您的需求,为您提供一对一解答。

注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外)。

服务优势

1、拥有完善的检测服务体系,科学、严谨、认证。

2、我院对已出过的报告负责。

3、提供编写MSDS报告、TDS报告服务。

4、检测服务领域广,可参考标准多(国标、企标、通标、工标、国际标准等)。

5、周期短,费用低,方案全。

6、支持定制化试验方案,数据更加科学准确。

7、全国上门取样/现场见证试验。

8、资质全,团队强,后期服务体系完善

报告作用

1、工业问题诊断:包括失效分析、科学诊断、数据验证等,可以快速检测出产品问题,尽快止损;

2、其他鉴定服务:协助相关部门证据链补充、证物材料补充、质量检测、样品分析;

4、研发使用:试验经验丰富,试验设备多,为科研工作提供数据支持;

3、高校论文:提供研究性实验数据、分析服务,给论文提供科学依据;

5、投标:检测周期短,准确性高,出具的第三方检测报告合法合规;

7、控制材料质量,进行产品内控,降低成本、风险。

试验流程

1、与工程师沟通,确定具体的试验方案,我方报价;

2、双方签订委托书,我方接收样品;

3、进行细节沟通,我方进行试验测试;

4、试验测试完成,出具检测测试报告;

5、委托完成,我方提供售后服务。

检测流程

检测仪器(部分)

实验仪器

实验仪器-手机

合作客户(部分)

合作客户

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