1. 晶格常数测定:精度±0.001nm(XRD法)
2. 结点密度分析:分辨率≥10^4/mm²(SEM/TEM联用)
3. 缺陷分布统计:检出限≤5nm(EBSD技术)
4. 取向偏差测量:角度误差±0.1°(EBSD系统)
5. 应力场分布:应变灵敏度1×10^-4(同步辐射CT)
1. 金属合金:钛合金/镍基高温合金的相变结构分析
2. 半导体材料:SiC/GaN外延层位错密度测定
3. 陶瓷材料:氧化锆相变晶格稳定性评估
4. 高分子晶体材料:聚乙烯单晶折叠链结构表征
5. 复合材料:碳纤维增强环氧树脂界面结合状态检测
1. ASTM E1426-14:X射线衍射法定量测定晶格畸变
2. ISO 22262-3:2017:电子背散射衍射(EBSD)取向分析
3. GB/T 17359-2023:扫描电镜能谱联用技术规范
4. ISO 25498:2018:透射电镜选区电子衍射标准
5. GB/T 39489-2020:同步辐射三维成像技术导则
1. X射线衍射仪(PANalytical Empyrean):配备高温附件(-190~1600℃)
2. 场发射扫描电镜(Thermo Scientific Apreo 2):分辨率0.6nm@15kV
3. 透射电子显微镜(FEI Tecnai G2 F30):点分辨率0.19nm
4. 电子背散射衍射系统(Oxford Symmetry S3):采集速度>3000pps
5. 同步辐射装置(上海光源BL13W1):能量范围5-20keV
6. 原子探针层析仪(CAMECA LEAP 5000XR):质量分辨率m/Δm≥2000
7. 激光共聚焦显微镜(Olympus LEXT OLS5000):Z轴分辨率10nm
8. X射线三维显微镜(ZEISS Xradia 620 Versa):体素尺寸0.7μm
9. 拉曼光谱仪(HORIBA LabRAM HR Evolution):空间分辨率200nm
10. 聚焦离子束系统(Thermo Scientific Helios G4 UX):束流稳定性±0.1%
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
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注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外)。
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1、工业问题诊断:包括失效分析、科学诊断、数据验证等,可以快速检测出产品问题,尽快止损;
2、其他鉴定服务:协助相关部门证据链补充、证物材料补充、质量检测、样品分析;
4、研发使用:试验经验丰富,试验设备多,为科研工作提供数据支持;
3、高校论文:提供研究性实验数据、分析服务,给论文提供科学依据;
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5、委托完成,我方提供售后服务。