1.电阻率测试:测量范围1kΩcm~10kΩcm,精度2%
2.晶体缺陷密度:位错密度≤500/cm,微缺陷尺寸≤50nm
3.表面粗糙度:Ra≤0.3nm(5μm5μm扫描区域)
4.氧含量分析:氧浓度8~18ppma(ASTMF121标准)
5.载流子寿命:≥100μs(光电导衰减法)
1.单晶硅衬底(直径100mm~300mm)
2.掺杂型高阻硅(磷/硼掺杂浓度1e13~1e15atoms/cm)
3.SOI(Silicon-On-Insulator)复合衬底
4.退火处理衬底(温度范围400℃~1200℃)
5.外延生长层(厚度1μm~50μm)
1.电阻率测试:ASTMF84四探针法/GB/T1552标准
2.X射线衍射(XRD):ISO14707晶体完整性分析
3.原子力显微镜(AFM):ISO11039表面形貌表征
4.二次离子质谱(SIMS):GB/T32281杂质深度分布
5.傅里叶红外光谱(FTIR):ASTMF1188氧含量测定
1.Keithley2450四探针电阻率测试仪(10nV~200V量程)
2.RigakuSmartLabX射线衍射仪(0.0001角度分辨率)
3.BrukerDimensionIcon原子力显微镜(0.1nm纵向分辨率)
4.CAMECAIMS7f-auto二次离子质谱仪(ppb级检出限)
5.ThermoScientificNicoletiS50FTIR光谱仪(4cm⁻分辨率)
6.SemilabWT-2000光电导衰减测试系统(0.1μs时间分辨率)
7.KLASurfscanSP3无接触表面缺陷检测仪(0.12μm灵敏度)
8.OxfordInstrumentsEBSD系统(晶体取向分析精度0.5)
9.Agilent5500扫描探针显微镜(多模式形貌表征)
10.HoribaLabRAMHREvolution拉曼光谱仪(空间分辨率0.5μm)
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
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注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外)。
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1、工业问题诊断:包括失效分析、科学诊断、数据验证等,可以快速检测出产品问题,尽快止损;
2、其他鉴定服务:协助相关部门证据链补充、证物材料补充、质量检测、样品分析;
4、研发使用:试验经验丰富,试验设备多,为科研工作提供数据支持;
3、高校论文:提供研究性实验数据、分析服务,给论文提供科学依据;
5、投标:检测周期短,准确性高,出具的第三方检测报告合法合规;
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2、双方签订委托书,我方接收样品;
3、进行细节沟通,我方进行试验测试;
4、试验测试完成,出具检测测试报告;
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