1.位错密度测定:测量单位面积(cm⁻)或体积(cm⁻)内位错线数量,精度5%
2.位错分布形态分析:通过Burgers矢量方向及滑移面倾角(0-90)表征空间分布
3.位错运动速率检测:记录高温(最高1200℃)环境下位错迁移速度(μm/s级)
4.位错增殖机制研究:量化Frank-Read源激活应力(MPa量级)
5.位错交互作用评估:统计Lomer-Cottrell锁形成概率及临界剪切应力(τ≥50MPa)
1.金属材料:铝合金(2xxx/7xxx系列)、钛合金(TC4/TA15)、高温合金(Inconel718)
2.半导体材料:单晶硅(<100>/<111>晶向)、GaN外延层
3.陶瓷材料:氧化铝(Al₂O₃)、碳化硅(4H-SiC/6H-SiC)
4.复合材料:碳纤维增强钛基复合材料(Cf/Ti)、SiCp/Al
5.高分子材料:超高分子量聚乙烯(UHMWPE)晶体区
1.ASTME112-13:透射电子显微镜(TEM)法定量测定位错密度
2.ISO24173:2009:电子背散射衍射(EBSD)分析位错组态
3.GB/T39498-2020:X射线衍射摇摆曲线法评估位错密度
4.ASTMF1940-07:化学腐蚀法显示硅片表面位错蚀坑
5.ISO22214:2021:同步辐射白光形貌术原位观测位错运动
1.场发射透射电镜JEM-ARM300F:原子级分辨率(0.08nm),配备Ge中心暗场探测器
2.热场发射扫描电镜SU9000:EBSD系统角分辨率≤0.5,工作电压0.5-30kV
3.X射线衍射仪D8DISCOVER:Cu靶λ=1.5406,摇摆曲线半高宽测量精度0.001
4.高温拉伸台GatanAduro500:温度范围RT-1300℃,应变速率10⁻⁶-10⁻s⁻
5.聚焦离子束系统HeliosG4UX:30kVGa离子束,定位精度10nm
6.激光共聚焦显微镜OLS5000:Z轴分辨率1nm,三维位错网络重构
7.同步辐射光束线BL09B:白光能谱范围5-30keV,时间分辨率10ms/帧
8.原子探针层析仪LEAP5000XR:质量分辨率m/Δm≥2000,探测效率≥65%
9.纳米压痕仪TIPremier:载荷分辨率50nN,动态模量测量误差≤2%
10.原位力学测试系统HysitronPI89:最大载荷10mN,位移分辨率0.02nm
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
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注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外)。
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1、工业问题诊断:包括失效分析、科学诊断、数据验证等,可以快速检测出产品问题,尽快止损;
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4、研发使用:试验经验丰富,试验设备多,为科研工作提供数据支持;
3、高校论文:提供研究性实验数据、分析服务,给论文提供科学依据;
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