1.拉伸强度测试:通过拉力试验机施加垂直载荷,测量键合界面在断裂前的最大应力值,评估键合层的抗拉性能与界面结合质量。
2.剪切强度测试:使用专用剪切装置施加平行力,检测键合层在剪切应力下的失效点,分析界面粘附强度与材料相容性。
3.剥离强度测试:采用剥离试验机测量键合界面在剥离方向上的强度,适用于薄膜键合结构的耐久性评估。
4.四点弯曲测试:应用均匀弯曲力矩于键合样品,评估结构在弯曲应力下的机械行为与裂纹扩展趋势。
5.冲击强度测试:模拟高速冲击载荷,检测键合界面在动态应力下的抗冲击能力,关联实际应用中的瞬时负载情况。
6.疲劳寿命测试:在循环加载条件下进行强度测量,分析键合性能随载荷次数的衰减规律,预测长期使用可靠性。
7.热循环测试:在温度循环环境中进行强度评估,检测热应力对键合界面的影响,验证温度变化下的稳定性。
8.湿度敏感度测试:控制高湿度条件测量键合强度,评估环境湿度对界面性能的退化机制与腐蚀风险。9.超声波扫描检测:利用超声波成像技术可视化键合界面内部缺陷,如空洞或分层,辅助强度数据的综合解读。
10.显微镜观察分析:通过光学或电子显微镜检查键合表面形貌,识别微观裂纹、剥落等失效模式,关联宏观强度表现。
1.硅-硅直接键合:广泛应用于微机电系统器件,键合强度高,需检测界面均匀性、缺陷密度及热应力耐受性。
2.玻璃-硅阳极键合:常见于传感器和封装应用,测试重点包括电场辅助下的键合强度与界面电化学稳定性。
3.金属-半导体共晶键合:用于功率半导体器件,评估金属层与半导体界面的结合强度及高温环境下的性能保持。
4.聚合物键合:如苯并环丁烯键合,适用于低温工艺,检测聚合物粘附层的机械强度与老化特性。
5.氧化物融合键合:通过高温处理实现键合,测试氧化物层的界面结合力,验证其在复杂应力下的耐久性。
6.临时键合与解键合:用于三维集成电路集成,评估临时键合强度以及在解键合过程中的完整性损失。
7.异质材料键合:如硅-砷化镓组合,检测不同热膨胀系数导致的应力集中,确保强度在多变环境中的一致性。
8.晶圆级封装键合:适用于芯片级封装或晶圆级封装结构,测试整体封装机械强度与界面可靠性。
9.厚膜键合:在厚膜电路中的应用,评估键合层厚度对强度的影响,以及厚度均匀性与性能关联。
10.多芯片模块键合:用于多芯片模块组装,检测多个芯片键合到基板上的强度分布均匀性及长期负载能力。
国际标准:
ASTM F1261、JESD22-B116、SEMI M1、ISO 14644-1、MIL-STD-883
国家标准:
GB/T 4937、GB/T 2423、GB/T 5170、GB/T 16525、GB/T 17573
1.拉力试验机:用于施加精确拉伸载荷,测量键合界面在垂直方向上的最大强度值,提供定量数据用于工艺验证。
2.剪切测试仪:专门设计用于施加平行剪切力,评估键合层在剪切应力下的失效机制与材料兼容性。
3.剥离试验机:测量薄膜或涂层键合在剥离力作用下的强度,分析界面粘附性能与失效阈值。
4.四点弯曲试验机:应用均匀弯曲力矩,测试键合结构在弯曲条件下的机械响应与裂纹 initiation点。
5.冲击试验机:模拟高速冲击环境,检测键合界面在动态载荷下的强度保持率与损伤模式。
6.疲劳试验机:在循环加载模式下进行测试,评估键合寿命与性能衰减趋势,支持可靠性建模。
7.环境试验箱:控制温度、湿度等参数,进行环境应力下的强度测量,验证键合在恶劣条件下的耐久性。
8.超声波扫描显微镜:利用高频声波成像技术,检测键合界面内部缺陷如空洞或分层,辅助强度数据的微观解释。
9.光学显微镜:用于观察键合表面形貌,识别微观裂纹、剥落或其他失效特征,关联宏观测试结果。
10.扫描电子显微镜:提供高分辨率图像分析键合界面微观结构,评估元素分布与界面结合质量。
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
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注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外)。
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